UP10M工业用**高纯气体纯化器

简介：
**高纯气体纯化技术是有色金属研究总院“十三五”重点产业化方向。在“十二五”期间**项目科研成果基础上研发的气体纯化材料，具有处理量大、去除杂质种类多、吸附深度大、使用寿命长等优点，并以此为核心技术开发出多个型号的惰性气体、氢气和氮气等**高纯气体纯化装置。同时，有研总院自身具备不断创新的研发能力，成套的纯化材料生产、纯化器组装技术，以及完善的纯化器性能测试条件，可根据用户需求设计完整解决方案、定制非标产品，并提供各项性能检测服务，目前产品已应用于中国科学院理化所、中国核工业集团、西南化工研究设计院、北京师范大学、北京航空航天大学、北京科技大学、国家有色金属材料检测中心，哈尔滨师范大学等单位获得应用。
UP10M工业用**高纯气体纯化器采用活性金属为化学吸附剂，当原料气通过活性金属纯化床时，气体中O 2，H2O，*2，CO，CO2，CH4等杂质气体与活性金属发生化学吸附反应，根据原料气纯度不同，一次纯化后出口气体纯度即达到 7*-8*，可实现无人值守全自动运行，并具有实时监测、故障报警和反馈等功能。为保证产品质量，纯化器系统管路连接全部采用 Swagelok 全自动轨道焊机焊接，漏率低于 10－9 Pa；关键部件焊接、组装、生产均在千级**净环境中进射流冲蚀试验机便于在各种条件下测定的磨损率。磨损率可 以用来确定在给定操作条件的较佳材料。它也可以被用来预测使用寿命和寿命周期成本。
UP系列气体纯化器
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委托上海正帆科技公司对 GRI*M-UP1L 氩气纯化器性能检测结果
 
气体类型
H2
O2/Ar
*2
CH4
CO
CO2
H2O
单位
原料气
0.074
<0.01
0.248
<0.01
<0.01
<0.01
未测试
ppm
纯化后
<0.01
<0.01
<0.01
<0.01
<0.01
<0.01
<0.033
ppm
 
部分用于现场照片：
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山西中升钢厂光谱仪配套UP10M使用现场，分析用气体纯度达到光谱仪检测所需的较高级的绿色。
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          北京科技大学CVD设备用的多台UP1L氩气纯化器
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西南化工研究院定制 20MPa/30*m3 氩气纯化器
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           搭载氢气纯化的电解水制氢/在线纯化系统，用于人造钻石生产高纯氢场合
 

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UP10M工业用**高纯气体纯化器产品参数：
l  原料气纯度要求：≥99.999%，He/Ar/H2 /*2
l  产品气纯度：≥99.99999%
l  产品气杂质含量：
H2O ≤5ppb
O2 ≤10ppb
*2 ≤10ppb（原料气非 *2 ）
H2 ≤10ppb（原料气非 H2 ）
CO ≤10ppb
CO2 ≤10ppb
CH4 ≤10ppb
*MHC ≤10ppb
l  较大工作流量：≤10*m3 /h，可定制2-30*m3 /h
l  阀门：EP 级气动隔膜阀
l  内置颗粒过滤器：2 微米
l  显示屏：组态控制软件，触摸屏工业计算机控制
l  较大工作压力：2.0MPa，氩气可定制20兆帕高压
l  出入口气体压差：0.2MPa
l  进出气接口：1/4″VCR
l  纯化柱及管路：EP级316不锈钢
l  管路连接：Swagelok 自动轨道焊接
l  电源电压及功率：220V-380V，10-20kw
l  产品外形尺寸：500×700×1600mm
 
气体纯化器是集成电路、LED、太阳能板、光纤、燃料电池等制造工艺中必不可少的重要装备，并可有效提高离子溅射、薄膜生长、焊接、配气等多项技术的工艺性能。UP10M 工业用**高纯气体纯化器系列主要用于提供工业生产、分析测试中的**高纯度工艺气、保护气等，也是气体配制行业必不可少的关键设备之一。
气体种类
产品用途
应用领域
He
稀释气纯化
半导体制造业中光刻、干刻、化学气相沉积工艺中混合气
Ar
等离子体气体、载气纯化
半导体制造业中干刻蚀、离子注入等 工艺中等离子体气体，直读光谱仪载气
*2
稀释气、检漏气纯化
半导体制造业中稀释氧化工艺、气体浓度调节、检漏气体
H2
还原气、反应气纯化
IC、LED 等制造业中外延工艺和扩散工艺气体